为纪念中国专利法实施四十周年，深入探讨新形势下高质量专利的培育路径与战略意义，2026年1月23日，由中国国际科技促进会指导，中国国际科技促进会知识产权工作委员会、中国国际科技促进会国际院士联合体工作委员会、中国国际科技促进会国际欧亚科学工作委员会、首都知识产权服务业协会联合举办的“打造高质量专利的意义及措施”专题研讨会在北京中国国际科技会展中心隆重举行。本次研讨会汇聚了来自学术界、产业界、知识产权服务机构的众多专家、学者与一线实践者，共同回顾专利制度发展成就，剖析当前核心挑战，凝聚关于推动专利工作从“数量增长”向“质量取胜”跨越的广泛共识。会议由中国国际科技促进会副秘书长兼知识产权工作委员会执行主任张志军主持，我会党委书记、常务副会长高永懿出席研讨会并讲话。

科技部中国国际科学技术交流中心正局级原副主任赵新力院士在发言中强调：“我们应当追求的是能够‘打仗’的专利，而非仅仅用于‘展览’的专利。一件高质量专利，应当同时具备‘写得好’、‘管得好’、‘用得好’三个特征，其终极价值体现在提升国家与企业的核心竞争力上。”

中国国际科技促进会国际院士联合体工作委员会常务副主任王涛院士指出，推动高质量专利的创造、运用、保护和管理，是一项需要创新主体、服务机构、审查机关与法律界协同发力的系统工程，也是工作委员会持续关注并致力于推动的核心工作领域之一。

本次会议通过深入研讨形成了多项行业共识，充分彰显了新时代对专利质量建设的高度重视。协会将持续发挥桥梁纽带作用，积极推动产学研用协同创新，助力构建与高质量发展相适应的知识产权生态体系，为推进知识产权强国建设和实现科技自立自强提供专业支撑。